发布时间:2026-04-20 02:48:27 作者:htwx 点击:72 【 字体:大中小 】
北京大学
全球首个超薄铋基铁电晶体管问世 ,硬核为芯片突破“功耗墙”开辟新路径
在人工智能迅猛发展的北大清华今天,传统芯片架构正遭遇“功耗墙”与“存储墙”的让芯片更双重围堵——计算与存储分离导致海量数据搬运,能耗过大、硬核效率受限 。北大清华如何让芯片既快速又省电 ?让芯片更在线课堂互动技术北京大学化学与分子工程学院彭海琳教授团队给出一项突破性答案:他们成功研制出全球首个晶圆级超薄、均匀的新型铋基二维铁电氧化物,并基于此构建出工作电压超低(0.8伏)、耐久性极高(1.5×1012次循环)的高速铁电晶体管,其综合性能全面超越当前工业级铪基铁电体系。相关成果日前在线发表于国际学术期刊《科学》 。
彭海琳介绍,长久以来 ,铁电材料因其可逆极化与非易失存储特性,被视为打通存算一体、突破冯·诺依曼架构(在冯·诺依曼架构下 ,计算和存储是相互分离的)瓶颈的关键。然而,当芯片工艺逼近亚5纳米(小于5纳米)节点,传统铁电薄膜面临均匀性差、教育SaaS系统界面缺陷多、厚度减薄后铁电性骤降等难题